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首頁(yè)-技術(shù)文章-橢偏儀在測(cè)量折射率和薄膜厚度中的應(yīng)用

橢偏儀在測(cè)量折射率和薄膜厚度中的應(yīng)用

更新時(shí)間:2023-10-30      點(diǎn)擊次數(shù):815
  橢偏儀是一種重要的光學(xué)儀器,在材料科學(xué)、光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。主要由光源、偏振器、樣品臺(tái)、檢偏器、光電探測(cè)器等組成。其工作原理是通過(guò)調(diào)節(jié)入射光的偏振方向和偏振態(tài),然后測(cè)量樣品對(duì)光的反射和透射光的偏振狀態(tài)變化,從而推導(dǎo)出樣品的折射率和薄膜的厚度。
 
  接下來(lái),我們將詳細(xì)解釋如何利用橢偏儀測(cè)量薄膜厚度,并介紹不同類(lèi)型薄膜的厚度測(cè)量方法。
 
  一、測(cè)量折射率:
 
  單層材料的折射率測(cè)量:在測(cè)量單層材料的折射率時(shí),可以通過(guò)橢偏儀測(cè)量樣品對(duì)光的反射和透射光的振幅比、光相位差等參數(shù),然后根據(jù)材料的光學(xué)模型,利用數(shù)學(xué)方法計(jì)算出折射率值。
 
  多層薄膜的折射率測(cè)量:通過(guò)調(diào)節(jié)參數(shù),如入射角度和波長(zhǎng)等,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)多層薄膜的反射和透射光的測(cè)量。然后,利用多層薄膜的傳輸矩陣方法或模擬退火算法等數(shù)學(xué)模型進(jìn)行計(jì)算,得到多層薄膜的折射率。
 
  三、測(cè)量薄膜厚度
 
  單層薄膜的厚度測(cè)量
 
  對(duì)于單層薄膜的厚度測(cè)量,可以通過(guò)橢偏儀測(cè)量樣品對(duì)光的反射和透射光的相位差等參數(shù),然后根據(jù)樣品的光學(xué)性質(zhì),利用數(shù)學(xué)模型進(jìn)行計(jì)算,推導(dǎo)出薄膜的厚度值。
 
  多層薄膜的厚度測(cè)量
 
  多層薄膜的厚度測(cè)量需要更復(fù)雜的計(jì)算方法。通過(guò)測(cè)量多層薄膜的反射和透射光的振幅比、相位差等參數(shù),并結(jié)合多層薄膜的光學(xué)模型,進(jìn)行數(shù)學(xué)計(jì)算,推導(dǎo)出薄膜的厚度信息。
 
  橢偏儀具有非接觸式、快速、準(zhǔn)確等優(yōu)點(diǎn),可以在不破壞樣品的情況下進(jìn)行測(cè)量。它在材料科學(xué)、光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、半導(dǎo)體器件等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景。例如,在光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)中,可以用于優(yōu)化薄膜層序、監(jiān)控薄膜生長(zhǎng)過(guò)程等。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步,在測(cè)量折射率和薄膜厚度方面的應(yīng)用前景將更加廣闊。
 

橢偏儀

 

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