產(chǎn)品系統(tǒng)NEWS CENTER
在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)-橢偏儀系列-光譜橢偏儀-ME-L 穆勒矩陣光譜橢偏儀
簡要描述:ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的研發(fā)投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。可應(yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。全自動(dòng)變角、對(duì)焦技術(shù),一鍵快速測量;向?qū)Ы换ナ饺藱C(jī)界面,便捷的軟件操作體驗(yàn);豐富的材料數(shù)據(jù)庫與算法模型庫,強(qiáng)大的
產(chǎn)品型號(hào): 更新時(shí)間:2024-04-03 瀏覽次數(shù):2395
廠家實(shí)力
Manufacturer Strength有效保修
Valid Warranty質(zhì)量保障
Quality Assurance產(chǎn)品中心
PRODUCT CATEGORY詳細(xì)介紹
一、概述
ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,具備 1 全穆勒矩陣測量技術(shù), 2 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制技術(shù),3 超級(jí)消色差補(bǔ)償器設(shè)計(jì)技術(shù),4 納米光柵表征測量技術(shù) 等技術(shù)??蓱?yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。
■ 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個(gè)元素;
■ 配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊;
■ 軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),易上手、操作便捷;
■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
■ 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);
■ 可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,測量信息量更大,測量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn);
■ 基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器設(shè)計(jì),一次測量獲得全穆勒矩陣16個(gè)元素,相對(duì)傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加全面量測信息;
■ 頤光核心技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜;
■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料;
■ 集成對(duì)納米光柵的分析,可同時(shí)測量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息。
使用頤光科技橢偏儀系列產(chǎn)品,(部分)提及并標(biāo)注“Eoptics Technology"文獻(xiàn)信息: ? "Atomic-level chemical reaction promoting external quantum efficiency of organic photomultiplication photodetector exceeding 108% for weak-light detection." Science Bulletin(2023). 影響因子:18.9,單位:太原理工大學(xué),通訊作者:崔艷霞 等 ? "La-doped PMN–PT transparent ceramics with ultra-high electro-optic effect and its application in optical devices." Journal of Advanced Ceramics(2023). 影響因子:16.89,單位:華中科技大學(xué)集成電路學(xué)院,通訊作者:傅邱云 等 ? "Giant in-plane optical and electronic anisotropy in tellurene: a quantitative exploration." Nanoscale(2022). 影響因子:7.79,單位:華中科技數(shù)字裝備制造國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,通訊作者:谷洪剛,劉世元 等 ? "Utilization of Trapped Optical Modes for White Perovskite Light-Emitting Diodes with Efficiency over 12%." Joule (2021). 影響因子:39.8,單位:華南理工大學(xué),通訊作者:彭俊彪,葉軒立 等 ? "Delocalization of exciton and electron wavefunction in non-fullerene acceptor molecules enables efficient organic solar cells."Nature Communications(2020). 影響因子:17.7,單位:華南理工大學(xué),通訊作者:葉軒立,曹鏞 等 ? "Enhanced light emission of quantum dot films by scattering of poly(zinc methacrylate) coating CdZnSeS/ZnS quantum dots and high refractive index BaTiO3 nanoparticles." ACS Nano (2020). 影響因子:18.9,單位:南方科技大學(xué),通訊作者:孫小衛(wèi) 等 ? "24.1% External Quantum Efficiency of Flexible Quantum Dot Light-Emitting Diodes by Light Extraction of Silver Nanowire Transparent Electrodes." Advance Optical Materials (2018). 影響因子:10.5,單位:武漢光電國家研究中心,通訊作者:胡彬,王磊 等 ? "Heat-Insulating Multifunctional Semitransparent Polymer Solar Cells." Joule (2018). 影響因子:39.8,單位:華南理工大學(xué)發(fā)光材料與器件國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,通訊作者:葉軒立,黃飛 等 ? "Layer-Dependent Dielectric Function of Wafer-Scale 2D MoS2." Advance Optical Materials (2018). 影響因子:10.5,單位:華中科技數(shù)字裝備制造國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,通訊作者:劉世元 等 ? "Ellipsometric study of the complex optical constants of a CsPbBr3 perovskite thin film." Journal of Materials Chemistry C(2017). 影響因子:8.06,單位:山東大學(xué),通訊作者:連潔 等 ?"High-Performance Polymer Tandem Solar Cells Employing a New n-Type Conjugated Polymer as an Interconnecting Layer." Advance Materials(2016). 影響因子:32.08,單位:華南理工大學(xué)發(fā)光材料與器件國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,通訊作者:葉軒立,黃飛 等 |
顯示面板|新型顯示材料解決方案 | 集成電路|IC集成電路檢測解決方案 | 光伏行業(yè)|光伏薄膜測量解決方案 |
玻璃蓋板|玻璃蓋板測量解決方案 | LED行業(yè)|LED芯片測量應(yīng)用解決方案 | 科學(xué)研究|新材料以及理論模型研究 |
溫控臺(tái) | Mapping模塊 | 真空氣泵 | 透射夾具 |
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品咨詢
相關(guān)產(chǎn)品
型號(hào):
型號(hào):
型號(hào):
型號(hào):
027-87001728
關(guān)注我們
微信賬號(hào)
掃一掃
手機(jī)瀏覽
Copyright©2024 武漢頤光科技有限公司 版權(quán)所有 備案號(hào):鄂ICP備17018907號(hào)-2 sitemap.xml 技術(shù)支持:化工儀器網(wǎng) 管理登陸